Research and Development
연구개발
초격자제품을 생산하고 고수익성 신규제품을 발굴ㆍ육성하기 위해 제품 고도화 선행기술개발 등
총 3개 연구소를 각각 운영하고 있는 연구중심 기업

케미칼연구소세계 최고의 분리 기술 연구






케미칼연구소
케미칼 연구소는 지난 38년간 반도체, 디스플레이 및 이차전지 분야에 사용되는 Chemical의 합성과 고순도화에 끊임없는 연구를 지속하여 최고의 품질과 경쟁력으로 세계 최상위 고객을 확보하는데 기반을 다져 왔습니다.
앞으로도 환경과 건강을 생각하는 연구를 통해 다양한 기능성 제품과 차세대 품목을 제공해 드릴 계획입니다.
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주소
전라남도 여수시 낙포단지길 79 (낙포동)
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전화
061-690-9200
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팩스
061-686-3199
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연구 방향
  • 01

    친환경 합성 및 고순도화

  • 02

    에너지 및 사용 물질 저감

  • 03

    공정 효율화

  • 04

    Renewable 물질 사용

  • 05

    CMR(Carcinogens, Mutagens, Reproductive toxicants) 물질 등 유해물질의 제거 및 생성 억제

주요 연구 분야
  • 합성 기술(Synthesis)

    유/무기 합성과 촉매 기술을 활용하여 첨단 소재와 친환경 용제를 합성하고, 최적의 Route 를 발굴하여 경제성을 추구하고 있으며, HBM (High Bandwidth Memory), 무기 PR, 전고체 전지 재료와 같은 신규 사업 개척을 위한 연구를 수행하고 있습니다.

  • 증류 기술(Distillation)

    추출증류, 공비증류, 반응증류 등의 기술을 바탕으로 고객의 요구에 따라 특정 성분의 함량 조절, 생성 억제 등 맞춤형 증류 정제 기술을 연구합니다. Simulation을 기초로 Lab, Pilot, Demo Plant를 수행하여 대량 생산에 적합한 공정 솔루션을 제공합니다.

  • 고순도화 기술(Ultra High Purity)

    불순물의 특성에 따라 흡착, 추출, 촉매 반응 등으로 제거하며, Inhibitor를 통한 불순물 생성 억제 기술을 활용하여 고객의 Needs에 부합하는 고순도화 제품 생산 기술을 연구합니다.

  • 분석 기술(Analysis)

    Chromatography, GC-MS, ICP-MS, ICP-MSMS 등의 장비를 활용하여 반도체/디스플레이 및 배터리 분야의 고객이 요구하는 정밀한 수준의 분석이 가능하며, 이 분석 기술을 바탕으로 불순물 생성 원인 규명 및 제거 기술을 연구합니다.

주요 연구 성과
※ 보유 특허 28건 : 반도체, 디스플레이, 이차전지용 용제 제조 관련 특허
향후 연구 분야
반도체/디스플레이용 케미칼

- 차세대 HBM(High Bandwidth Memory) 용제 고순도화

- 반도체용 SOD(Spin On Dielectrics) Thinner 개발

- EUV용 무기 PR 합성 공정

- 저 유전 상수 물질(Low K) 합성

2차전지

- 전고체 분산용매 합성 및 고순도화

- 전고체 바인더 합성

- 전고체 전해질 황화수소(H2S) 억제 기술

- 2차전지 전해액 합성용 초고순도 원료 고순도화

ESG 추구

- 안전/환경영향 물질(Formaldehyde, As etc.) Zero 제품 제조 공정

- 친환경 재생 공정을 탄소 저감 기술로 개발하여 탄소 배출권 확보

- 무기산 고순도화

협력 가능 유망 기술

- 반도체, 디스플레이, 2차전지 관련 합성 및 고순도화 혁신 기술

- 에너지 생산, 저장, 운송에 관한 혁신 기술

- Renewable source 활용 기술

- 잠재력 있는 소재 제조 기술

- 혼합물 고순도화 혁신 기술